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Esclavage et résistances
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Evidence of chemical effects in niobium implanted oxides
Auteur(s)
:
Ramos, M.
Canut, B.
Gea, L.
Romana, Laurence
Le Brusq, J.
Thevenard, P.
Brunel, M.
Auteurs secondaires
:
Institut des Nanotechnologies de Lyon - Site de l'INSA (INL) ; École Centrale de Lyon (ECL) - Université Claude Bernard Lyon 1 (UCBL) - Institut National des Sciences Appliquées de Lyon (INSA Lyon) - Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Université des Antilles (UA)
Groupe de Technologie des Surfaces et Interfaces (GTSI) ; Université des Antilles et de la Guyane (UAG) - Université des Antilles (Pôle Guadeloupe) ; Université des Antilles (UA) - Université des Antilles (UA)
Éditeur(s)
:
HAL CCSD
Elsevier
Résumé
: International audience
ISSN: 0168-583X
hal-01685818
https://hal.univ-antilles.fr/hal-01685818
DOI : 10.1016/0168-583X(91)95793-D
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Voir aussi
[PHYS] Physics [physics]
[SPI] Engineering Sciences [physics]